టంగ్స్టన్ హెక్సాఫ్లోరైడ్ (WF6) ఉపయోగాలు

టంగ్‌స్టన్ హెక్సాఫ్లోరైడ్ (WF6) ఒక CVD ప్రక్రియ ద్వారా వేఫర్ ఉపరితలంపై నిక్షిప్తం చేయబడుతుంది, లోహ ఇంటర్‌కనెక్షన్ ట్రెంచులను నింపుతుంది మరియు పొరల మధ్య లోహ ఇంటర్‌కనెక్షన్‌ను ఏర్పరుస్తుంది.

ముందుగా ప్లాస్మా గురించి మాట్లాడుకుందాం. ప్లాస్మా అనేది ప్రధానంగా స్వేచ్ఛా ఎలక్ట్రాన్లు మరియు చార్జ్డ్ అయాన్లతో కూడిన పదార్థం యొక్క ఒక రూపం. ఇది విశ్వంలో విస్తృతంగా ఉంది మరియు దీనిని తరచుగా పదార్థం యొక్క నాల్గవ స్థితిగా పరిగణిస్తారు. దీనిని ప్లాస్మా స్థితి అని పిలుస్తారు, దీనిని "ప్లాస్మా" అని కూడా పిలుస్తారు. ప్లాస్మా అధిక విద్యుత్ వాహకతను కలిగి ఉంటుంది మరియు విద్యుదయస్కాంత క్షేత్రంతో బలమైన సంయోగ ప్రభావాన్ని కలిగి ఉంటుంది. ఇది పాక్షికంగా అయనీకరణం చెందిన వాయువు, ఇది ఎలక్ట్రాన్లు, అయాన్లు, స్వేచ్ఛా రాడికల్స్, తటస్థ కణాలు మరియు ఫోటాన్లతో కూడి ఉంటుంది. ప్లాస్మా అనేది భౌతికంగా మరియు రసాయనికంగా చురుకైన కణాలను కలిగి ఉన్న విద్యుత్ తటస్థ మిశ్రమం.

అధిక శక్తి ప్రభావంతో, అణువు వాన్ డెర్ వాల్స్ బలాన్ని, రసాయన బంధ బలాన్ని మరియు కూలంబ్ బలాన్ని అధిగమిస్తుంది మరియు మొత్తంగా తటస్థ విద్యుత్తు రూపాన్ని ప్రదర్శిస్తుంది అనేది సరళమైన వివరణ. అదే సమయంలో, బయటి నుండి అందించబడిన అధిక శక్తి పైన పేర్కొన్న మూడు శక్తులను అధిగమిస్తుంది. ఫంక్షన్, ఎలక్ట్రాన్లు మరియు అయాన్లు స్వేచ్ఛా స్థితిని ప్రదర్శిస్తాయి, దీనిని సెమీకండక్టర్ ఎచింగ్ ప్రాసెస్, CVD ప్రాసెస్, PVD మరియు IMP ప్రాసెస్ వంటి అయస్కాంత క్షేత్రం యొక్క మాడ్యులేషన్ కింద కృత్రిమంగా ఉపయోగించవచ్చు.

అధిక శక్తి అంటే ఏమిటి? సిద్ధాంతపరంగా, అధిక ఉష్ణోగ్రత మరియు అధిక పౌనఃపున్య RF రెండింటినీ ఉపయోగించవచ్చు. సాధారణంగా చెప్పాలంటే, అధిక ఉష్ణోగ్రత సాధించడం దాదాపు అసాధ్యం. ఈ ఉష్ణోగ్రత అవసరం చాలా ఎక్కువగా ఉంటుంది మరియు సూర్యుని ఉష్ణోగ్రతకు దగ్గరగా ఉండవచ్చు. ఈ ప్రక్రియలో దీనిని సాధించడం ప్రాథమికంగా అసాధ్యం. అందువల్ల, పరిశ్రమ సాధారణంగా దీనిని సాధించడానికి అధిక-పౌనఃపున్య RFని ఉపయోగిస్తుంది. ప్లాస్మా RF 13MHz+ వరకు చేరుకుంటుంది.

టంగ్స్టన్ హెక్సాఫ్లోరైడ్ విద్యుత్ క్షేత్రం యొక్క చర్యలో ప్లాస్మా చేయబడుతుంది, ఆపై అయస్కాంత క్షేత్రం ద్వారా ఆవిరి-నిక్షేపించబడుతుంది. W అణువులు శీతాకాలపు గూస్ ఈకలను పోలి ఉంటాయి మరియు గురుత్వాకర్షణ చర్యలో నేలపై పడతాయి. నెమ్మదిగా, W అణువులు త్రూ హోల్స్‌లోకి జమ చేయబడతాయి మరియు చివరకు ఫుల్ త్రూ హోల్స్‌ను నింపి లోహ ఇంటర్‌కనెక్షన్‌లను ఏర్పరుస్తాయి. త్రూ హోల్స్‌లో W అణువులను జమ చేయడంతో పాటు, అవి వేఫర్ ఉపరితలంపై కూడా జమ అవుతాయా? అవును, ఖచ్చితంగా. సాధారణంగా చెప్పాలంటే, మీరు W-CMP ప్రక్రియను ఉపయోగించవచ్చు, దీనిని తొలగించడానికి మేము యాంత్రిక గ్రౌండింగ్ ప్రక్రియ అని పిలుస్తాము. ఇది భారీ మంచు తర్వాత నేలను తుడుచుకోవడానికి చీపురును ఉపయోగించడం లాంటిది. నేలపై ఉన్న మంచు తుడిచివేయబడుతుంది, కానీ నేలపై ఉన్న రంధ్రంలో మంచు అలాగే ఉంటుంది. క్రిందికి, దాదాపు అదే.